华海清科 9 月 9 日宣布，其自主研发的全自动板级 CMP 量产装备 Master-P510APEX 近日顺利出机，已发往先进封装产线投入量产应用。这是首台进入量产线的国产全自动板级 CMP 装备，意味着板级封装核心工艺装备完成了从研发到应用的关键跨越。

为什么先进封装越来越重要

随着人工智能、高性能计算、5G 通信与物联网等技术的持续演进，芯片制造对集成度、功耗和成本的要求不断提升。在制程微缩难度与成本同步走高的背景下，先进封装被视为延续摩尔定律、支撑高端算力的重要路径。

板级封装凭借产出效率高、成本优势明显的特点，在 CoPoS、FOPLP（面板级扇出封装）以及 TGV（玻璃通孔）互连等先进工艺中的应用日益广泛，产品尺寸由晶圆级向面板级拓展已成为明确趋势。

CMP 这道工序难在哪

在板级封装的进程中，多层再分布互连结构的全局平坦化对 CMP（化学机械抛光）工艺提出了更高要求。板级 CMP 装备的性能直接关系到介质层与金属层的平坦度、缺陷水平及界面质量，是保障互连可靠性和最终芯片良率的核心环节。

与传统晶圆级抛光相比，板级抛光的难点在于面积更大、翘曲与形变更难控制，要在整块面板范围内保持一致的材料去除率，对装备的均匀性控制能力是很大考验。随着板级封装加速进入商业化阶段，产线对高性能板级 CMP 量产装备的需求正在快速上升。

Master-P510APEX 的技术规格

按照华海清科官网信息，Master-P510APEX 面向先进封装、玻璃基板等领域的板级产品，专为 510mm×515mm 规格板件的超平坦化、低缺陷抛光需求设计。

该装备采用双抛光头加双研磨盘的配置，集成在线清洗模块与全自动上下料系统，并配置翻转模块以实现双面抛光需求，可连续稳定运行，满足全自动量产要求。相比单抛光头、单抛光盘的 Master-P510，APEX 版本在产能与自动化程度上更进一步。

据官方介绍，此次出机的 Master-P510APEX 针对大尺寸板级封装的工艺特点进行了系统性设计，具备优异的全板面均匀性与平坦化控制能力，可满足低缺陷抛光要求，并通过智能终点检测与自动化控制实现多种工艺模式的灵活切换，为先进封装产线提供高一致性、高良率的规模化量产支持。

产业意义

先进封装设备此前长期由境外厂商主导，国产装备多在成熟制程环节实现批量应用。Master-P510APEX 进入量产线，说明国内企业在板级封装这一新兴工艺环节上，已经具备提供核心装备的能力。该装备进入产线后，将提升板级封装制程的工艺稳定性与效率，为板级封装能力的自主构建提供关键装备保障。

有研究机构观点认为，在 AI 需求增长、存储扩产、先进制程与封装升级以及国产替代的多重推动下，半导体设备行业整体发展前景良好，前道膜厚与 OCD 量测设备、晶圆探针台、高端探针卡、半导体测试设备等国产化率较低的环节，正处于客户验证加速、订单放量和国产份额提升的关键阶段。